دانشمندان چینی با کمک مهندسان سابق ASML دستگاه لیتوگرافی EUV توسعه دادند
چین با کمک مهندسان سابق شرکت هلندی ASML موفق به ساخت نمونه اولیه دستگاه لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) شده است. این دستاورد تکنولوژیکی که تحت نظارت هواوی و با بودجه نامحدود پیش میرود، میتواند وابستگی چین به غرب در تولید تراشههای پیشرفته را کاهش دهد.
توسعه دستگاه لیتوگرافی EUV توسط چین
در یک آزمایشگاه فوق امنیتی در شنژن، دانشمندان چینی موفق به ساخت نمونه اولیه دستگاه لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) شدهاند. این دستاورد مهم که دولت آمریکا سالها تلاش میکرد از آن جلوگیری کند، با کمک مهندسان سابق ASML و تحت نظارت مستقیم حزب کمونیست چین محقق شده است. دستگاههای EUV که تاکنون در انحصار شرکت هلندی ASML بودند، برای تولید پیشرفتهترین تراشههای هوش مصنوعی و نظامی ضروری هستند.
- همکاری با متخصصان سابق ASML: چین با ارائه پاداشهای کلان، مهندسان سابق ASML (اغلب چینیتبار) را به خدمت گرفته است
- کار در شرایط امنیتی شدید: مهندسان با نامهای مستعار و کارتهای شناسایی جعلی کار میکنند
- مدیریت توسط هواوی: این پروژه با هماهنگی هزاران مهندس در شبکهای از شرکتها پیش میرود
- چالشهای فنی پیش رو: تولید سیستمهای نوری دقیق مانند شرکت Zeiss هنوز مانع اصلی است
- اهداف زمانی: چین هدفگذاری کرده تا سال ۲۰۲۸ با این دستگاه چیپ تولید کند
"دستگاه لیتوگرافی دانشمندان چینی هنوز در مرحله آزمایشی است اما موفق شده نور فرابنفش شدید تولید کند"
"کارشناسان معتقدند سال ۲۰۳۰ تاریخ واقعبینانهتری برای تولید تراشه با این تکنولوژی است"
این دستاورد میتواند تحول بزرگی در صنعت نیمههادی چین ایجاد کند و وابستگی این کشور به تکنولوژی غربی را کاهش دهد.
