استارتاپ آمریکایی Substrate مدعی توسعه ابزار لیتوگرافی پیشرفته با هزینه کمتر برای رقابت با ASML
استارتاپ آمریکایی Substrate ابزار لیتوگرافی مبتنی بر اشعه ایکس توسعه داده که میتواند با وضوح بالا ویفرها را چاپ کند و هدف آن کاهش هزینههای تولید تراشه و رقابت با غولهای حوزه است.
استارتاپ Substrate و انقلابی در لیتوگرافی تراشه
استارتاپ آمریکایی Substrate ادعا کرده که ابزار لیتوگرافی پیشرفتهای توسعه داده که از اشعه ایکس برای چاپ ویژگیهای با وضوح بالا روی ویفرها استفاده میکند. این فناوری میتواند با دستگاههای چندصد میلیون دلاری شرکت هلندی ASML رقابت کند، در حالی که هزینه تولید را به طور چشمگیری کاهش میدهد.
- هدف اصلی کاهش هزینههای تولید تراشه با ابزارهای مقرونبهصرفه است
- این پروژه بخشی از برنامه بلندپروازانه برای راهاندازی خط تولید تراشه در آمریکاست
- در صورت موفقیت، میتواند با شرکت تایوانی TSMC در تولید تراشههای هوش مصنوعی رقابت کند
- چالشهای فنی و مهندسی زیادی پیشروی این استارتاپ قرار دارد
- اثرات اقتصادی و امنیتی موفقیت این پروژه برای آمریکا بسیار significative است
“جیمز پراود”， مدیرعامل Substrate: «هدف ما کاهش هزینههای تولید تراشه با ابزارهای بسیار ارزانتر از رقباست» “جف کوچ”， کارشناس SemiAnalysis: «اگر در کاهش هزینه موفق شوند، صنعت فضایی نیز سود خواهد برد»
این استارتاپ تاکنون 100 میلیون دلار سرمایه جذب کرده و ارزش آن به بیش از 1 میلیارد دلار رسیده است.
