نگاهی به درون کارخانه محرمانه TSMC؛ محل تولید پیشرفتهترین تراشههای جهان
شرکت TSMC ویدیویی از کارخانه Fab 21 خود در آریزونا منتشر کرده که فرایند تولید تراشههای ۴ و ۵ نانومتری با فناوری لیتوگرافی EUV را نمایش میدهد.
کارخانه TSMC آریزونا و فناوری پیشرفته تولید تراشه
شرکت TSMC بهتازگی ویدیویی از داخل کارخانه Fab 21 خود در نزدیکی شهر فینیکس در ایالت آریزونا منتشر کرده است. این ویدیو نمای داخلی یکی از پیشرفتهترین مراکز تولید تراشه در جهان را نشان میدهد که در آن تراشههایی در کلاس ۴ نانومتر و ۵ نانومتر تولید میشوند. کارخانه مذکور بخشی از سفارشات مشتریان آمریکایی TSMC را تأمین میکند و تولید تراشهها با استفاده از فرایند ساخت N4 و N5 در حال افزایش است.
- سیستم خودکار انتقال مواد (AMHS) متشکل از ریلهای هوایی که پادهای FOUP حامل ویفرهای ۳۰۰ میلیمتری را جابهجا میکنند
- اسکنرهای EUV ساخت شرکت ASML هلند از نوع Twinscan NXE که الگوها را بر روی ویفرها چاپ میکنند
- فناوری لیتوگرافی EUV که از نوری با طولموج ۱۳٫۵ نانومتر استفاده میکند
- ایجاد الگوهای بسیار ظریف با وضوح حداکثر حدود ۱۳ نانومتر با یکبار نوردهی
- نمایش مدیریت دقیق و لجستیک منظم انتقال ویفرها در سراسر کارخانه
“دستگاههای لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) از نوع Twinscan NXE ساخت شرکت ASML محصولاتی مانند پردازندههای Blackwell B300 انویدیا را تولید میکنند.”
“فرایند تولید بهصورت درخششهای بنفشرنگ پلاسما درون محفظه به نمایش درآمده است.”
این ویدیو نشان میدهد که چگونه TSMC با استفاده از پیشرفتهترین فناوریهای موجود، تراشههای حیاتی برای صنعت فناوری جهانی تولید میکند.
